반도체 포토마스크(Photo Mask)란?

반도체 포토마스크란?

반도체및 디스플레이 사업에 적용되는 포토마스크는 반도체와 디스플레이 생산시 회로를 설계할 때 사용하는 필수 공정재료입니다. 이것은 반도체 칩을 만들 때 패턴을 전달하는 데 사용되는 특수 유리 또는 쿼츠 판입니다. 포토마스크는 반도체 칩의 미세한 패턴 및 회로를 만들기 위해 빛을 쏘아 투과시키거나 차단하는 역할을 합니다.

포토마스크는 LCD,OLED TFT패턴 공정에 적용되고 있습니다. LCD Panel에서 OLED Panel로 기술발전이 진행된다 하더라도 포토마스크의 공급은 변동없이 유지되는 공정 입니다.

포토마스크 제작과정

디자인: 먼저 반도체 칩의 디자인이 컴퓨터 소프트웨어를 사용하여 만들어집니다.

마스크 제작: 디자인을 바탕으로 포토마스크가 제작됩니다. 이 과정에서 디자인 패턴이 유리 또는 쿼츠 판에 포팅되거나 전사되어 만들어집니다.

노광: 마스크는 반도체 웨이퍼 위에 위치하고, 노광 장비를 사용하여 빛을 웨이퍼로 투과시켜 디자인 패턴을 웨이퍼 위에 복사합니다.

패턴 전송: 노광 과정을 통해 패턴이 웨이퍼 위에 복사되며, 이 패턴은 반도체 칩의 미세한 회로와 트랜지스터를 형성하는 데 사용됩니다.

포토마스크는 반도체 제조 과정에서 매우 중요한 역할을 하며, 정밀한 미세한 패턴을 전달하여 칩의 성능과 품질을 결정하는 데 중요한 역할을 합니다. 

FPD용 마스크(Flat Panel Display Masks)

FPD용 마스크(쿼츠/BLANK/PHOTO)는 TFT-LCD같은 DISPLAY액정소자 제조를 위한 원재료로써 최종 크기에 따라 반도체용 마스크의 한정된 크기와는 달리 다양한 크기를 가지고 있습니다. FPD용 마스크는 상대적으로 반도체용 마스크보다 사이즈가 큰 다양한 제품군의 세대별 모델이 존재 합니다, 포토마스크(Photo Mask)는 투명도가 좋은 유리판(Quartz)위에 크롬(Cr)막을 입힌 블랭크마스크(Blank Mask)에 미세회로를 형성시킨것으로 극히 미세한 회로를 만들어서 반도체의 웨이퍼나 TFT-LCD의 노광공정에서 사용됩니다.

이러한 Photo Mask는 미세한 패턴능력에 따라 반도체의 직접도나 품질이 달라지며, 디스플레이장치의 경우 왜곡이 없는 넓은면적에 사용되어야 하기때문에 기술의 척도가 되기도 하는 중요한 원재료입니다.  Photo Mask 제작을 위해서는 모든 제조공정간 이송작업이 이루어지며 이송간 Particler과 같은 작은 결함(Defect)도 허용치 않는 아주 엄격한 스펙이 요구되어집니다. 

FPD용 마스크(Flat Panel Display Masks)는 평면 패널 디스플레이(Flat Panel Display, FPD) 제조 과정에서 사용되는 특수한 종류의 마스크입니다. FPD는 플라즈마 디스플레이, 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display, LCD), 오렌지 라이트 디스플레이(OLED), 및 기타 유형의 평면 디스플레이 기술을 포함합니다.

FPD용 마스크는 FPD 패널 제조 과정에서 사용되며, 이러한 디스플레이 기술에서 미세한 패턴을 형성하는 데 필수적입니다. 이러한 마스크는 디스플레이 패널의 다양한 부분을 제작하는 데 사용됩니다. 예를 들어, LCD 패널에서는 액정 셀을 제어하는 데 사용되며, OLED 패널에서는 유기 발광 다이오드(Organic Light-Emitting Diode)의 픽셀을 형성하는 데 사용됩니다.

FPD용 마스크는 미세한 패턴과 세부적인 디자인을 포함하며, 정밀한 제조 과정을 통해 만들어집니다. 이러한 마스크는 디스플레이 패널의 화질과 성능에 직접적인 영향을 미치므로 고정밀 제조 및 품질 관리가 필요합니다. FPD용 마스크는 FPD 산업에서 중요한 역할을 하며, 고화질 및 고해상도 디스플레이를 생산하기 위한 필수 도구 중 하나입니다.

포토마스크 시장

포토마스크 관련 장비 및 소모품도 기술적 난이도가 높아 많은 업체가 제품을 생산하고 있지는 못합니다. 따라서, 국내외 쿼츠/블랭크/포토마스크용 케이스 제조시장은 과점 구조를 형성하고 있는 형태입니다.